Úplné zobrazení záznamu

Toto je statický export z katalogu ze dne 04.11.2023. Zobrazit aktuální podobu v katalogu.

Bibliografická citace

.
0 (hodnocen0 x )
EB
ONLINE
London : ISTE ; Hoboken, N.J. : Wiley, 2011
1 online resource (xvii, 337 p.) : ill
Externí odkaz    Plný text PDF 
   * Návod pro vzdálený přístup 


ISBN 9781118601112 (electronic bk.)
ISBN 1848212313
ISBN 9781848212312 (hc)
Includes bibliographical references and index
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion..
Electronic reproduction. Ann Arbor, MI : ProQuest, 2015. Available via World Wide Web. Access may be limited to ProQuest affiliated libraries
001755047
full
(Au-PeEL)EBL1124704
(CaONFJC)MIL450003
(CaPaEBR)ebr10660607
(MiAaPQ)EBC1124704
(OCoLC)828298716

Zvolte formát: Standardní formát Katalogizační záznam Zkrácený záznam S textovými návěštími S kódy polí MARC