Úplné zobrazení záznamu

Toto je statický export z katalogu ze dne 04.11.2023. Zobrazit aktuální podobu v katalogu.

Bibliografická citace

.
0 (hodnocen0 x )
EB
ONLINE
1st ed.
Linkoping : Linkopings Universitet, 2021
1 online resource (84 pages)
Externí odkaz    Plný text PDF 
   * Návod pro vzdálený přístup 


ISBN 9789179296995 (electronic bk.)
Print version: Viloan, Rommel Paulo B. Engineered Ion-Bombardment As a Tool in Thin Film Deposition Linkoping : Linkopings Universitet,c2021
Intro -- Abstract -- Popularvetenskaplig sammanfattning -- Preface -- Included papers -- Contributions to the included papers -- Acknowledgements -- Contents -- 1. Introduction -- 2. Sputtering process -- 3. Thin film growth -- 4. Plasma characterization of ionic species -- 5. Material characterization -- 6. Summary and contribution to the field -- 7. Future outlook -- Bibiliography -- Papers.
001895604
express
(Au-PeEL)EBL6607573
(MiAaPQ)EBC6607573
(OCoLC)1251441193

Zvolte formát: Standardní formát Katalogizační záznam Zkrácený záznam S textovými návěštími S kódy polí MARC