Úplné zobrazení záznamu

Toto je statický export z katalogu ze dne 04.11.2023. Zobrazit aktuální podobu v katalogu.

Bibliografická citace

.
0 (hodnocen0 x )
EB
ONLINE
1st ed.
Linkoping : Linkopings Universitet, 2021
1 online resource (79 pages)
Externí odkaz    Plný text PDF 
   * Návod pro vzdálený přístup 


ISBN 9789179296322 (electronic bk.)
Print version: Nadhom, Hama Area Selective Chemical Vapor Deposition of Metallic Films Using Plasma Electrons As Reducing Agents Linkoping : Linkopings Universitet,c2021
Intro -- Abstract -- Popularvetenskaplig Sammanfattning -- edNU Yde j -- Preface -- Acknowledgement -- List of Articles -- Table of Contents -- 1. Introduction -- 2. Chemical Vapor Deposition -- 3. Area Selective CVD -- 4. Characterization Techniques -- 5.Contribution to the Field -- 6. Outlook -- References -- Papers.
001895638
express
(Au-PeEL)EBL6628984
(MiAaPQ)EBC6628984
(OCoLC)1255230646

Zvolte formát: Standardní formát Katalogizační záznam Zkrácený záznam S textovými návěštími S kódy polí MARC