Úplné zobrazení záznamu

Toto je statický export z katalogu ze dne 29.06.2024. Zobrazit aktuální podobu v katalogu.

Bibliografická citace

.
0 (hodnocen0 x )
EB
ONLINE
1st ed.
Linkoping : Linkopings Universitet, 2022
1 online resource (82 pages)
Externí odkaz    Plný text PDF 
   * Návod pro vzdálený přístup 


ISBN 9789179293901 (electronic bk.)
Print version: Zhang, Hengfang Hot-Wall MOCVD of N-polar Group-III Nitride Materials and High Electron Mobility Transistor Structures Linkoping : Linkopings Universitet,c2022
Intro -- ABSTRACT -- POPULARVETENSKAPLIG SAMMANFATTNING -- PREFACE -- ACKNOWLEDGEMENT -- Contents -- Part I -- 1.1 Introduction -- 1.2 Fundamental properties of group-III nitrides -- 1.3 MOCVD -- 1.4 Epitaxy of N-polar III-Nitrides -- 1.5 Characterization techniques -- 1.6 Summary of main results -- Part II -- 2.1 Publications included in the thesis -- 2.2 Publications not included in the thesis.
001897979
express
(Au-PeEL)EBL7075905
(MiAaPQ)EBC7075905
(OCoLC)1343247959

Zvolte formát: Standardní formát Katalogizační záznam Zkrácený záznam S textovými návěštími S kódy polí MARC